एचआईपीआईएमएस प्रौद्योगिकी का संक्षिप्त परिचय

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग तकनीक का व्यापक रूप से कोटिंग क्षेत्र के क्षेत्र में उपयोग किया जाता है। यह आमतौर पर सजावटी कोटिंग अनुप्रयोगों और उपकरण कोटिंग अनुप्रयोगों दोनों के लिए प्रयोग किया जाता है। लेकिन अभी भी मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग तकनीक की कई सीमाएं हैं। उदाहरण के लिए, मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग लक्ष्यों की पावर घनत्व लक्ष्य थर्मल लोड से प्रभावित होती है। बड़े स्पटरिंग वर्तमान के तहत, अत्यधिक सकारात्मक आयनों ने लक्ष्य को बमबारी कर दिया है, जो स्पटरिंग लक्ष्य को गर्म करने और जलाने का लक्ष्य बना सकता है, इसके अलावा, स्पटरिंग की ऊर्जा सीमित है, और धातु आयनीकरण दर अधिक नहीं है।

हाल के वर्षों में, घर और विदेश में एक उच्च शक्ति वाले स्पंदित मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग (हायपीआईएमएस) तकनीक विकसित की गई है, जो इन सीमाओं को बहुत कमजोर करती है। HiPIMS की चोटी शक्ति सामान्य चुंबकत्व स्पटरिंग के लगभग 100 गुना है, और स्पटरिंग सामग्री में बहुत अधिक आयनीकरण दर है, यह भी अत्यधिक आयनीकृत बीम में बड़े कण नहीं होते हैं, यही कारण है कि हायपीआईएमएस आसानी से उच्च गुणवत्ता वाली फिल्म परत प्राप्त कर सकता है ।

चूंकि पल्स एक्शन टाइम कुछ सौ माइक्रोसॉन्ड के भीतर होता है, इसलिए हायपीआईएमएस की औसत शक्ति सामान्य चुंबकत्व स्पटरिंग के बराबर होती है, ताकि चुंबक के लक्ष्य को ठंडा करने की आवश्यकता में वृद्धि न हो। यद्यपि हाई पावर स्पंदित मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग की तात्कालिक शक्ति बहुत अधिक है, इसकी औसत शक्ति बहुत अधिक नहीं है, इसलिए इसे व्यापक रूप से बढ़ावा दिया जा सकता है।