वाष्पीकरण चढ़ाना के किस प्रकार के ताप तरीकों में शामिल हैं

वाष्पीकरण चढ़ाना के किस प्रकार के ताप तरीकों में शामिल हैं? प्रत्येक की विशेषताएं क्या हैं?

हीटिंग विधियों में विभाजित किया जा सकता है:
(1) प्रतिरोध हीटिंग (2) प्रेरण हीटिंग (3) इलेक्ट्रॉन बीम हीटिंग (4) लेजर हीटिंग (5) चाप हीटिंग। (2) प्रेरण हीटिंग: उच्च हीटिंग दक्षता, तेजी से हीटिंग और बड़े हीटिंग क्षमता। (3) इलेक्ट्रॉन बीम हीटिंग: इस हीटिंग विधि में एक चुंबकीय क्षेत्र द्वारा ध्यान केंद्रित किया जा रहा है और सीधे वाष्पीकृत सामग्री को प्रभावित करने वाले हजारों ईवी उच्च-ऊर्जा इलेक्ट्रॉन शामिल हैं। तापमान 30000C जितना अधिक हो सकता है। इसके इलेक्ट्रॉन दो स्रोतों से आते हैं: गर्म धातुओं से गर्म इलेक्ट्रॉन, और खोखले कैथोड डिस्चार्ज से। (4) लेज़र हीटिंग: लेज़र बीम को प्रकाशिकी द्वारा वाष्पीकरण स्रोत पर केंद्रित किया जा सकता है, जिससे स्थानीय तात्कालिक उच्च तापमान उत्पन्न होता है। पहले USES को लाल लेजर स्पंदित किया गया था, और फिर पराबैंगनी उत्तेजक लेजर विकसित किए गए थे। पराबैंगनी किरण का लाभ यह है कि प्रत्येक फोटोन की ऊर्जा अवरक्त किरण की तुलना में बहुत अधिक होती है, इसलिए एक्साइमर लेजर की शक्ति घनत्व बहुत अधिक होती है, जो इलेक्ट्रॉन बीम के कार्य के समान होती है। इसका उपयोग अक्सर जटिल यौगिकों को कवर करने के लिए किया जाता है और कोटिंग की गुणवत्ता बहुत अच्छी होती है। यह मूल रूप से इलेक्ट्रॉन बीम हीटिंग या स्पटरिंग प्रक्रिया से अलग है, एक्साइमर लेजर को ठीक कणों से अलग किया जाता है और बाद को अणुओं के रूप में अलग किया जाता है। (5) आर्क हीटिंग: कैथोड चाप बयान के फायदे हैं: (1) तेजी से वाष्पीकरण दर, 1.0 माइक्रोन प्रति सेकंड (2) सब्सट्रेट को गर्म करने की आवश्यकता नहीं है (3) उच्च तापमान धातु और सिरेमिक के साथ चढ़ाया जा सकता है यौगिकों (4) कोटिंग घनत्व और उच्च आसंजन

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