HiPIMS प्रौद्योगिकी अवलोकन

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग तकनीक पतली फिल्म तैयारी के क्षेत्र में व्यापक रूप से उपयोग की जाती है। सजावटी कोटिंग और उपकरण कोटिंग के अनुप्रयोग अपेक्षाकृत आम हैं।

हालांकि, मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग प्रसंस्करण प्रौद्योगिकी में कई सीमाएं हैं। उदाहरण के लिए, जब स्पटरिंग वर्तमान बड़ा होता है, जिसका मतलब है कि एक चुंबकत्व स्पटरिंग लक्ष्य की शक्ति घनत्व लक्ष्य गर्मी भार से सीमित है, अत्यधिक सकारात्मक आयनों के साथ लक्ष्य के बमबारी से स्पटरिंग लक्ष्य अधिक गरम हो सकता है और जल सकता है। इसके अलावा, इसमें सीमित स्पटरिंग ऊर्जा और कम धातु आयनीकरण दर के नुकसान भी हैं।

हाल के वर्षों में, घर और विदेश में एक उच्च शक्ति वाले स्पंदित मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग (हायपीआईएमएस) प्रौद्योगिकी विकसित की गई है, और यह सीमा बहुत कमजोर हो गई है। उच्च शक्ति वाले स्पंदित मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग की चोटी शक्ति सामान्य चुंबकत्व स्पटरिंग के लगभग 100 गुना है। स्पटरर्ड सामग्री की आयनीकरण दर बेहद अधिक है, और इस अत्यधिक आयनीकृत बीम में बड़े कण नहीं होते हैं। इसलिए, हायपीआईएमएस प्रौद्योगिकी द्वारा उच्च गुणवत्ता वाली फिल्म आसानी से प्राप्त की जा सकती है।

चूंकि पल्स एक्शन टाइम कुछ सौ माइक्रोसॉन्ड के भीतर होता है, इसलिए हायपीआईएमएस की औसत शक्ति सामान्य चुंबकत्व स्पटरिंग की तुलना में तुलनीय है, ताकि मैग्नेट्रॉन लक्ष्य शीतलन की आवश्यकता में वृद्धि न हो। यद्यपि हाई पावर स्पंदित मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग की तात्कालिक शक्ति अधिक है, इसकी औसत शक्ति अधिक नहीं है, इसलिए इसका व्यापक रूप से उपयोग किया जा सकता है।