प्रेरण ताप वाष्पीकरण

प्रेरण हीटिंग वाष्पीकरण, उच्च आवृत्ति विद्युत चुम्बकीय क्षेत्र प्रेरण हीटिंग का उपयोग है, ताकि सब्सट्रेट संक्षेपण फिल्म प्रौद्योगिकी की सतह पर सामग्री वाष्पीकरण हो। इसके फायदे एक बड़ी वाष्पीकरण दर है, प्रतिरोध वाष्पीकरण स्रोत से लगभग 10 गुना बड़ा है, वाष्पीकरण स्रोत का तापमान स्थिर है, छिड़काव घटना उत्पन्न करना आसान नहीं है, क्रूसिबल तापमान कम है, और क्रूसिबल सामग्री फिल्म के लिए कम प्रदूषित है मार्गदर्शक। वाष्पीकरण उपकरणों के नुकसान से बचा जाना चाहिए, उच्च लागत, जटिल उपकरण हैं। यद्यपि इन तीन वाष्पीकरण कोटिंग प्रौद्योगिकियों का सिद्धांत समान है, वे सभी उच्च तापमान वाष्पीकरण सामग्री के वाष्पीकरण द्वारा लेपित हैं, लेकिन लागू वातावरण समान नहीं है, और प्लेटेड फिल्म और सब्सट्रेट की भी अलग-अलग आवश्यकताएं हैं।

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