उदाहरण के तौर पर IPhone14 को लेते हुए, आइए फोन के विकास और विनिर्माण प्रक्रिया में वैक्यूम के बारे में बात करें

उदाहरण के तौर पर iPhone14 को लेते हुए, आइए फोन के विकास और विनिर्माण प्रक्रिया में "वैक्यूम" के बारे में बात करें

iPhone 14 श्रृंखला के बारे में बात करने से पहले, आइए दो मुख्यधारा पीवीडी कोटिंग विधियों, वैक्यूम स्पटर कोटिंग और वैक्यूम वाष्पीकरण कोटिंग के बारे में बात करें, जो मुख्य रूप से इस पेपर में शामिल हैं।

● वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग की लक्ष्य सामग्री में उच्च शुद्धता, उच्च घनत्व, कई घटक, समान अनाज आदि की विशेषताएं हैं। यह आम तौर पर एक लक्ष्य रिक्त और एक बैकप्लेन से बना होता है। लक्ष्य रिक्त स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री के मुख्य भाग से संबंधित है, जो उच्च गति आयन बीम बमबारी की लक्ष्य सामग्री है। लक्ष्य बिलेट पर आयनों द्वारा प्रभाव डालने के बाद, सतह के परमाणु बाहर निकल जाते हैं और एक इलेक्ट्रॉन फिल्म बनाने के लिए सब्सट्रेट पर जमा हो जाते हैं। उच्च शुद्धता वाली धातु की कम ताकत के कारण, स्पटरिंग लक्ष्य सामग्री को उच्च वोल्टेज और उच्च वैक्यूम के मशीन वातावरण में स्पटरिंग प्रक्रिया को पूरा करने की आवश्यकता होती है।

● वैक्यूम वाष्पीकरण कोटिंग, वाष्पीकरण स्रोत को गर्म करके किसी सामग्री को वाष्पित करके वैक्यूम स्थितियों के तहत एक पतली फिल्म प्राप्त करने की तकनीक को संदर्भित करती है ताकि यह सब्सट्रेट सामग्री की सतह पर जमा हो जाए। जो पदार्थ वाष्पित हो जाता है उसे वाष्पित पदार्थ कहते हैं। एक वैक्यूम वाष्पीकरण कोटिंग प्रणाली आम तौर पर तीन भागों से बनी होती है: वैक्यूम कक्ष, वाष्पीकरण स्रोत या वाष्पीकरण हीटिंग डिवाइस, सब्सट्रेट की नियुक्ति, और सब्सट्रेट हीटिंग डिवाइस। निर्वात में जमा की जाने वाली सामग्री को वाष्पित करने के लिए, वाष्पीकृत सामग्री को वांछित वाष्प दबाव उत्पन्न करने के लिए पर्याप्त उच्च तापमान पर लाने के लिए वाष्पीकरण की गर्मी प्रदान करने की आवश्यकता होती है।

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