आयन चढ़ाना की प्रक्रिया

आयन चढ़ाना की प्रक्रिया इस प्रकार है:

वाष्पीकरण स्रोत एनोड के साथ जुड़ा हुआ है, और वर्कपीस कैथोड के साथ जुड़ा हुआ है। तीन से पांच हजार वोल्ट उच्च वोल्टेज प्रत्यक्ष वर्तमान पारित करने के बाद, वाष्पीकरण स्रोत और वर्कपीस के बीच चमक निर्वहन उत्पन्न होता है। क्योंकि वैक्यूम कवर अक्रिय आर्गन से भरा होता है, आर्गन का हिस्सा डिस्चार्ज इलेक्ट्रिक फील्ड की कार्रवाई के तहत आयनित होता है, और कैथोड वर्कपीस के चारों ओर एक प्लाज्मा डार्क रीजन बनता है। सकारात्मक चार्ज आर्गन आयन कैथोड के नकारात्मक उच्च दबाव से आकर्षित होता है और वर्कपीस की सतह पर जमकर बमबारी करता है, जिससे वर्कपीस की सतह पर कणों और गंदगी को विस्फोट किया जा सकता है, ताकि प्लेटेड होने वाले वर्कपीस की सतह को आयन बमबारी द्वारा पूरी तरह से साफ किया जा सके। फिर, वाष्पीकरण स्रोत की एसी बिजली की आपूर्ति जुड़ी हुई है, और वाष्पीकरण सामग्री कण पिघल जाते हैं और वाष्पित हो जाते हैं, चमक निर्वहन क्षेत्र में प्रवेश करते हैं, और आयनित होते हैं। सकारात्मक चार्ज वाष्पीकरण सामग्री आयनों के साथ, कैथोड आकर्षण के तहत, आर्गन आयनों के साथ वर्कपीस में भाग गए, जब वर्कपीस की सतह पर वाष्पीकरण सामग्री आयन स्पलैश आयनों की संख्या से अधिक हो जाते हैं, धीरे-धीरे वर्कपीस कोटिंग की सतह पर ठोस आसंजन की एक परत बनाने के लिए जमा होते हैं। यह आयन चढ़ाना की सरल प्रक्रिया है।

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