आयन पंप द्वारा सक्रिय गैस की पंपिंग गति

आयन पंप द्वारा सक्रिय गैस की पंपिंग गति

कुछ गैसें रासायनिक रूप से अधिक सक्रिय होती हैं, जैसे हाइड्रोजन, ऑक्सीजन, नाइट्रोजन, कार्बन मोनोऑक्साइड, कार्बन डाइऑक्साइड, आदि, और वे अधिकांश धातुओं के साथ आसानी से स्थिर यौगिक बना सकती हैं। आयन पंप में, ये सक्रिय गैस अणु कैथोड के आयन बमबारी से निकले ताजा टाइटेनियम (या टैंटलम) के साथ प्रतिक्रिया करके टाइटेनियम नाइट्राइड और टाइटेनियम ऑक्साइड जैसे ठोस यौगिक बनाते हैं, जिन्हें "पंप कर दूर" कर दिया जाता है (वास्तव में, द्वारा उपभोग किया जाता है) प्रतिक्रिया)। ताजा कैथोड सामग्री के साथ प्रतिक्रिया करने के अलावा, सक्रिय गैस को भी इंजेक्ट किया जाएगा और कैथोड सामग्री में फैलाया जाएगा और वहीं रहेगा, इस प्रकार "पंप से दूर" होने का प्रभाव प्राप्त होगा; हालाँकि, हाइड्रोजन के अलावा, अधिकांश सक्रिय गैस को कैथोड सामग्री में बहुत गहराई तक इंजेक्ट नहीं किया जाता है, एक निश्चित मात्रा तक पहुंचने के बाद कैथोड में इंजेक्ट की गई गैस के इन हिस्सों को बाद के आयन बमबारी के तहत छोड़ा जाएगा, जिसे कहा जाता है संतृप्ति प्रभाव (लेख देखें: आयन पंप संतृप्ति पंपिंग गति, असंतृप्त पंपिंग गति और नाममात्र पंपिंग गति)। कम दबाव पर, समान नाममात्र पंपिंग गति वाले डायोड पंप में सक्रिय गैसों के लिए उच्चतम पंपिंग गति होती है, इसके बाद नोबल डायोड होता है, और उच्च दबाव (5E-6 mbar से ऊपर) पर, स्टारसेल आयन पंप की पंपिंग गति सबसे अधिक होती है। रफ़्तार।

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