वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग

वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग

दर्जनों इलेक्ट्रॉन वोल्ट या उच्च गतिज ऊर्जा वाले आवेशित कण सामग्री की सतह पर बमबारी करते हैं, जिससे उसके परमाणुओं को पर्याप्त उच्च ऊर्जा मिलती है और वे गैस चरण में बाहर निकल जाते हैं, इस छींटे, जटिल कण बिखरने की प्रक्रिया को स्पटरिंग कहा जाता है। वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग विभिन्न पतली फिल्मों का उत्पादन करने के लिए स्पटरिंग घटना का उपयोग करना है। लाभ: अच्छी फिल्म मोटाई नियंत्रणीयता और दोहराव; सब्सट्रेट पर मजबूत आसंजन; उच्च फिल्म शुद्धता और अच्छी गुणवत्ता; लक्ष्य सामग्री से भिन्न सामग्री फिल्म तैयार की जा सकती है। नुकसान: वाष्पीकरण कोटिंग की तुलना में कम फिल्म बनाने की गति; सब्सट्रेट का तापमान अधिक है; अशुद्धता गैस के प्रति संवेदनशील; डिवाइस की संरचना जटिल है. मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग सबसे अधिक इस्तेमाल की जाने वाली कोटिंग तकनीक है। यह तकनीक गैस के साथ टकराव की संभावना को बढ़ा सकती है, लक्ष्य सामग्री की स्पटरिंग दर में सुधार कर सकती है और अंततः जमाव दर में सुधार कर सकती है। इसलिए, यह अवशोषण, संचरण, प्रतिबिंब, अपवर्तन, ध्रुवीकरण और कार्यात्मक फिल्म, सजावट क्षेत्र और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक क्षेत्र के अन्य कार्यों के लिए अधिक उपयुक्त है।

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