वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग

वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग
दर्जनों इलेक्ट्रॉन वोल्ट या उच्च गतिज ऊर्जा वाले चार्ज कण सामग्री की सतह पर बमबारी करते हैं, ताकि उसके परमाणुओं को गैस चरण में बाहर निकलने के लिए पर्याप्त उच्च ऊर्जा मिल सके, इस छिड़काव और जटिल कण बिखरने की प्रक्रिया को स्पटरिंग कहा जाता है। वैक्यूम स्पटरिंग कोटिंग विभिन्न प्रकार की फिल्मों के निर्माण के लिए स्पटरिंग घटना का उपयोग है।
लाभ: फिल्म की मोटाई नियंत्रणीयता और दोहराव; सब्सट्रेट पर मजबूत आसंजन; फिल्म की शुद्धता उच्च गुणवत्ता; लक्ष्य सामग्री से भिन्न सामग्री वाली फिल्में तैयार की जा सकती हैं।
नुकसान: फिल्म निर्माण की गति वाष्पीकरण कोटिंग से कम है; उच्च सब्सट्रेट तापमान; अशुद्धता गैस के प्रति संवेदनशील; डिवाइस की संरचना जटिल है.
वर्तमान में, सबसे अधिक इस्तेमाल की जाने वाली स्पटरिंग कोटिंग तकनीक मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग तकनीक है। यह तकनीक गैस के साथ टकराव की संभावना को बढ़ा सकती है, लक्ष्य की स्पटरिंग दर को बढ़ा सकती है और अंततः जमाव दर को बढ़ा सकती है। इसलिए, यह कार्यात्मक फिल्मों, सजावटी क्षेत्रों और अवशोषण, संचरण, प्रतिबिंब, अपवर्तन और ध्रुवीकरण वाले माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक क्षेत्रों के लिए अधिक उपयुक्त है।

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