वाष्प जमाव प्रौद्योगिकी

वाष्प जमाव प्रौद्योगिकी

वाष्प जमाव तकनीक एक नई कोटिंग तकनीक है जिसमें जमा तत्वों वाले वाष्प पदार्थों को भौतिक या रासायनिक तरीकों से एक पतली फिल्म बनाने के लिए सामग्री की सतह पर जमा किया जाता है। जमाव प्रक्रिया के विभिन्न सिद्धांतों के अनुसार, वाष्प जमाव तकनीक को दो श्रेणियों में विभाजित किया जा सकता है: भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) और रासायनिक वाष्प जमाव (सीवीडी)। भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) सामग्री को परमाणुओं और अणुओं में वाष्पीकृत करने या उन्हें वैक्यूम स्थितियों के तहत भौतिक तरीकों से आयनों में आयनित करने और वाष्प चरण प्रक्रिया के माध्यम से सामग्री की सतह पर एक पतली फिल्म जमा करने की तकनीक को संदर्भित करता है। भौतिक जमाव तकनीक में मुख्य रूप से तीन बुनियादी विधियाँ शामिल हैं: वैक्यूम वाष्पीकरण, स्पटरिंग और आयन प्लेटिंग। वैक्यूम वाष्पीकरण एक ऐसी विधि है जिसके द्वारा फिल्म बनाने वाली सामग्री को वाष्पीकृत या उर्ध्वपातित किया जाता है और एक फिल्म बनाने के लिए वर्कपीस की सतह पर जमा किया जाता है। वाष्पीकरण सामग्री के विभिन्न पिघलने बिंदुओं के अनुसार, हीटिंग विधि में प्रतिरोध हीटिंग, इलेक्ट्रॉन बीम हीटिंग, लेजर हीटिंग इत्यादि होते हैं। वैक्यूम वाष्पीकरण की विशेषताएं सरल उपकरण, प्रक्रिया और संचालन हैं, लेकिन वाष्पीकृत कणों की कम गतिज ऊर्जा के कारण, कोटिंग और सब्सट्रेट बाइंडिंग बल कमजोर हैं, और कोटिंग ढीली है, इसलिए प्रभाव प्रतिरोध और पहनने का प्रतिरोध अधिक नहीं है . स्पटर प्लेटिंग एक वैक्यूम के तहत ग्लो डिस्चार्ज द्वारा आर्गन गैस को आयनित करने की एक विधि है, और उत्पन्न आर्गन आयन विद्युत क्षेत्र की कार्रवाई के तहत त्वरण के साथ कैथोड पर बमबारी करते हैं, और स्पटरिंग कणों को एक फिल्म बनाने के लिए वर्कपीस की सतह पर जमा किया जाता है। . इसके फायदे गैसीकरण कणों की उच्च गतिज ऊर्जा, लागू सामग्रियों की एक विस्तृत श्रृंखला (मैट्रिक्स सामग्री और कोटिंग सामग्री सहित), और अच्छी चढ़ाना क्षमता हैं, लेकिन जमाव दर धीमी है, महंगा उपकरण है। आयन चढ़ाना एक वैक्यूम के तहत गैस डिस्चार्ज तकनीक द्वारा वाष्पीकृत परमाणु भाग को आयनों में आयनित करने और एक फिल्म बनाने के लिए वर्कपीस की सतह पर बड़ी संख्या में उच्च-ऊर्जा तटस्थ कणों को जमा करने की एक विधि है। इसकी विशेषता कोटिंग की उच्च गुणवत्ता, मजबूत आसंजन, अच्छी चढ़ाना क्षमता और तेज जमाव गति है, लेकिन जटिल उपकरण और महंगे जैसे कुछ नुकसान भी हैं। भौतिक वाष्प जमाव में लागू मैट्रिक्स सामग्री और फिल्म सामग्री की एक विस्तृत श्रृंखला होती है; सरल प्रक्रिया, सामग्री की बचत, और प्रदूषण-मुक्त; मजबूत आसंजन, समान मोटाई, घनत्व और कम पिनहोल के लाभ प्राप्त हुए। इसका व्यापक रूप से मशीनरी, एयरोस्पेस, इलेक्ट्रॉनिक्स, ऑप्टिक्स, प्रकाश उद्योग और अन्य क्षेत्रों में पहनने के लिए प्रतिरोधी, संक्षारण प्रतिरोधी, गर्मी प्रतिरोधी, प्रवाहकीय, इन्सुलेटिंग, ऑप्टिकल, चुंबकीय, पीज़ोइलेक्ट्रिक और चिकनी सुपरकंडक्टिंग फिल्में तैयार करने के लिए उपयोग किया गया है।

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