अति उच्च आवृत्ति प्लाज्मा रासायनिक वाष्प जमाव (VHF-PECVD)
Jun 23, 2023| जब आरएफ-पीईसीवीडी तकनीक द्वारा पतली फिल्में तैयार की जाती हैं, तो कम तापमान जमाव प्राप्त करने के लिए, पतला सिलेन को प्रतिक्रिया गैस के रूप में उपयोग किया जाना चाहिए, इसलिए जमाव दर सीमित है। Vhf-pecvd तकनीक का व्यापक रूप से व्यावहारिक अनुप्रयोगों में उपयोग किया जाता है क्योंकि VHF द्वारा उत्तेजित प्लाज्मा में पारंपरिक रेडियो फ्रीक्वेंसी [2] द्वारा उत्पन्न प्लाज्मा की तुलना में कम इलेक्ट्रॉन तापमान और उच्च घनत्व होता है, जो फिल्म की जमाव दर में काफी सुधार कर सकता है।
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