पीईवीसीडी की भूमिका

पीईवीसीडी की भूमिका

प्लाज्मा-संवर्धित रासायनिक वाष्प जमाव (PECVD) तकनीक का उपयोग सिलिकॉन वेफर की सतह पर एक आदर्श एंटी-रिफ्लेक्शन सिलिकॉन नाइट्राइड फिल्म जमा करने के लिए किया जाता है। सिलिकॉन वेफर के सस्पेंशन बॉन्ड को संतृप्त करने के लिए फिल्म निर्माण के दौरान हाइड्रोजनीकरण भी किया जाता है। इसलिए, प्रकाश अवशोषण को बढ़ाते हुए, यह सतह पर और सौर सेल के शरीर में एक अच्छा निष्क्रिय प्रभाव निभाता है। साथ ही, शॉर्ट-सर्किट करंट और ओपन-सर्किट वोल्टेज बढ़ जाता है, और रूपांतरण दक्षता में सुधार होता है।

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